【詳細】
【具体的には】
■パワーGaNトランジスタ用エピタキシャルウェハの結晶成長技術開発
・MOCVD法を用いたGaN系薄膜成長技術の開発
・安定生産を実現する量産化技術の開発
■パワーGaNトランジスタのウエハプロセス開発
・化合物半導体(GaN系)のプロセス要素技術開発(成膜、エッチング、不純物拡散、電極形成など)
・パワーGaNトランジスタの製造プロセス開発(電極構造の形成、共振器構造の形成など)
・パワーGaNトランジスタのデバイス特性評価
【変更の範囲】
同社業務全般